上海伯東 HVA 真空插板閥應用于半導體管道中

時間：2023-05-23

作者：伯東企業（上海）有限公司

詞條
詞條說明
上海伯東提供適用于薄膜太陽能電池生產的離子源和真空系統
? ? ?在沒有真空的情況下，可再生能源的發展是不可能的。以光伏發電（Photovoltaics，PV）為例，這是一種為大家所熟知的能源轉化方式，通過太陽能電池將太陽輻射能轉化為電子流，進而生成電能。? ? ? ?太陽能電池技術有許多種類，其中一種主要的技術是基于薄膜沉積。這種方法的主要優點在于，它在制造太陽能電池時消耗的材料較
KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220濺射沉積 ZrAlN薄膜
合金化是提高過渡族金屬氮化物薄膜硬度及抗磨損、耐腐蝕性能的有效方法。Al是常用合金化元素，能提高薄膜的硬度和抗高溫氧化性能。?北京某大學實驗室在對硬韌 ?ZrAlN 薄膜及薄膜力學性能研究中, 采用伯東?KRI?考夫曼射頻離子源?RFCIP220? 輔助磁控濺射沉積的方法在鈦合金和單晶 Si 上沉積不同 Al 含量的ZrAlN 薄膜.&n
HVA 高真空閘閥應用于 OLED 鍍膜機
因產品配置不同，價格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實際成交合同為準。HVA?高真空閘閥應用于 OLED 鍍膜機OLED 鍍膜機主要面向半導體照明客戶, 需要鍍膜機性能穩定, 器件效率高, *,HVA?高真空閘閥應用一般科研用鍍膜機的基片尺寸在 4”和6”大小, 本底真空度要求達到 5*10-7mbar 或 5*10-8mbar, 這時需要配置分子泵系統或低溫泵
HVA 真空閥門 11000 用在 OLED 鍍膜機
國內某?OLED?鍍膜機廠家配置伯東美國?HVA?真空閥門?11000?系列，尺寸以?4”, 6”, 8”閥門口徑為主的標準不銹鋼氣動高真空閘閥,?HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?系列標準技術規格:??閥門材質:?-?閥門主體?304&