HVA 高真空閘閥應用于 OLED 鍍膜機

時間：2023-05-23

作者：伯東企業（上海）有限公司

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詞條說明
氦質譜檢漏儀熱交換器檢漏
氦質譜檢漏儀熱交換器檢漏上海伯東德國 Pfeiffer 某客戶需要對體積 >1000L 的熱交換器進行檢漏, 熱交換器內部管子細長, 流導小, 需要盡可能的快速測試并要求清潔無油, 真空模式下, 熱交換器漏率要求 1x10-6 mbar l/s. 為了快速抽空, 選用輔助泵 + 氦質譜檢漏儀 ASM 390, 實現快速檢漏！熱交換器檢漏方法：配置: ASM 380 (新款 ASM 390)
KRI 離子源用于UVC人機共存紫外濾光片鍍膜
? ?? ?紫外濾光片是一種光學元件, 通過使用分散在玻璃材料表面的光學薄膜控制入射光通過膜層后不同波長光的透反比. 222nm是紫外不可避免的一個波段, 因為其生物體透過率低, 被譽為對人體的紫外線.222nm遠紫外產品一定程度上解決了傳統紫外線不能直接照射人體的痛點問題, 兼顧了功能性和性, 實現了人機友好共存, 有效減少和滅殺身體表面多達99.9%的細
KRI 離子源用于離子束拋光機
?? ? 離子束拋光適用于大面積、異型、特殊材料等加工對象的非接觸式修形及拋光,?精度可達亞納米級,?被譽為拋光.?離子束拋光機的部件是可聚焦的高能量離子源.?上海伯東某客戶為精密光學元器件設備制造商,?主要產品為離子束拋光機、磁流變拋光機等,?提供精密光學工藝制造研發服務,?是一家精密光學元器件解
KRi 射頻離子源 IBSD離子束濺射沉積應用
上海伯東美國?KRi 考夫曼 RF 射頻離子源, 燈絲提供高能量, 低濃度的寬束離子束, 離子束轟擊濺射目標, 濺射的原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, IBSD 離子束濺射沉積和 ?IBD 離子束沉積是其典型的應用.KRi?離子源在 IBSD 離子束濺射沉積應用通常安裝兩個離子源主要濺射沉積源和二次預清潔 / 離子輔助源一次氣源為惰性氣體, 二次氣源為惰性或反應性