KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220濺射沉積 ZrAlN薄膜

時間：2024-01-12

作者：伯東企業（上海）有限公司

詞條
詞條說明
上海伯東美國 HVA 真空閥門在真空退火爐中的應用
真空退火爐主要適用于不銹鋼拉深件如水暖器材/ 水脹件/ 醫療器械/ 不銹鋼釘/ 不銹鋼鏍絲/ 壓鉚件/ 不銹鋼軸承/ 表殼/ 表帶/ / 微型軸/ 自攻自鉆/ 餐具等不銹鋼制品在保護氣氛控制下進行連續光亮退火/ 固溶/ 退磁及不銹鋼淬火處理的多用爐.??處理后產品表面光潔, 不氧化, 不脫碳. 具有生產效, 能耗低, 污染少, 操作使用方便, 勞動強度低等優點.也可供金屬材料釬
上海伯東KRI 離子源在鍺基紅外鍍膜中的應用
? ? 紅外光學薄膜器件作為紅外系統重要組成部分,?已廣泛應用于航空航天、、環保、分析儀器等各個領域.?在紅外光學應用中,?由于鍺在2～14μm紅外波段內有高而均勻的透過率,?是一種的優良紅外光學材料.?鍺單晶切片加工成的鍺透鏡及鍺窗和利用鍺單晶透過紅外波長特性制成的各種紅外光學部件廣泛用于各類紅外光學系統.?&nbs
KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220濺射沉積 ZrAlN薄膜
合金化是提高過渡族金屬氮化物薄膜硬度及抗磨損、耐腐蝕性能的有效方法。Al是常用合金化元素，能提高薄膜的硬度和抗高溫氧化性能。?北京某大學實驗室在對硬韌 ?ZrAlN 薄膜及薄膜力學性能研究中, 采用伯東?KRI?考夫曼射頻離子源?RFCIP220? 輔助磁控濺射沉積的方法在鈦合金和單晶 Si 上沉積不同 Al 含量的ZrAlN 薄膜.&n
分子泵組應用于脈沖激光沉積系統 PLD
渦輪分子泵組應用于脈沖激光沉積系統?PLD脈沖激光沉積系統 PLD 可用來制備金屬和各種物質薄膜, 甚至還用來制備一些難以合成的材料膜. 為了提高 PLD 系統的真空度和加快抽空時間, 經過伯東選用分子泵+分子泵組串聯組合的形式來提高系統的真空度. 快達到其使用要求.渦輪分子泵組應用于脈沖激光沉積系統 PLD 客戶案例一: 上海伯東某客戶選用美國相干 Coherent 公司出產的 COM