上海伯東KRI 離子源在鍺基紅外鍍膜中的應用

時間：2024-01-10

作者：伯東企業（上海）有限公司

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HVA 真空閥門應用于E-Beam 鍍膜機
某品牌?Sputtering + E-Beam PVD?鍍膜機系統采用?HVA?真空閥門?11000, HVA?真空閥門安裝在分子泵口便于泵的檢修,同時外系統停機時不破壞系統真空,?只要對泵內部進行破真空即可.E-Beam?鍍膜機設備組成:?系統主要由蒸發室,?電子,?進樣室
模塊式檢漏儀應用于氫能行業真空箱檢漏系統
模塊式檢漏儀應用于氫能行業真空箱檢漏系統在燃料電池中, 氫氣發生電化學反應以產生電力并為汽車提供動力. 燃料電池發電機, 儲氣罐和配電管線需要密封, 防止發生可能影響性能和安全性的泄漏. 為滿足大批量生產需求, 通常使用自動化真空箱檢漏系統. 上海伯東德國 Pfeiffer?檢漏模塊 ASI 35?作為自動氦檢漏系統的**部件, 提供可靠, 可重復的泄露檢測, 滿足氫能行業真空
KRI 射頻離子源輔助沉積鍍制385nm紫外帶通濾光片
?帶通濾光片也叫干涉濾光片,?主要起到過濾不想要的雜光,?只讓想要的光通過的作用. 385nm?紫外帶通濾光片是帶通濾光片中一款?UV?紫外波段的濾光片,?廣泛應用于熒光檢測,?多波段濾光片.?它具有高透過率,?其深截止可保探測器接收不到其它波長的光,?因此可保證圖像的高亮度和大的信噪比.
上海伯東KRI離子源在半導體材料中的預清洗及刻蝕應用
半導體材料（semiconductor material）是一類具有半導體性能（導電能力介于導體與絕緣體之間，電阻率約在1mΩ·cm～1GΩ·cm范圍內）、可用來制作半導體器件和集成電路的電子材料。二氧化硅是制造玻璃、石英玻璃、水玻璃、光導纖維、電子工業的重要部件、光學儀器、工藝品和耐火材料的原料，是科學研究的重要材料。?本文主要介紹上海伯東KRI離子源在半導體材料SiO2中的預清洗及刻