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金錫合金靶材:精密鍍膜的核心材料 在半導體、光伏和顯示面板等行業,金錫合金靶材憑借其獨特的性能成為不可或缺的鍍膜材料。這種合金通常由金(Au)和錫(Sn)按特定比例組成,常見比例為Au80Sn20或Au70Sn30,具有低熔點、高導熱性和優異的焊接性能。 金錫合金靶材的核心優勢在于其穩定的化學性質和良好的潤濕性。在真空鍍膜過程中,它能夠形成均勻致密的薄膜,有效提升電子元器件的導電性和耐腐蝕性。尤其
江門貴金屬靶材批發價格貴金屬靶材作為一種在電子器件、醫療設備、航空航天和新能源等領域中發揮著重要作用的材料,其制備方法與應用領域備受關注。江門XXXX有限公司作為一家生產高屬材料、蒸發鍍膜材料以及濺射靶材的科技型企業,不僅擁有多名中**技術人員和實驗室,而且具有強大的蒸發材料開發能力和生產實力。公司研發的貴金屬靶材系列產品,以較高的性價比成功替代了國外進口產品,在國內外享有良好口碑。貴金屬靶材的純
三氧化二釔靶材:現代科技中的關鍵材料三氧化二釔靶材作為一種特殊的功能材料,在多個高科技領域扮演著不可或缺的角色。這種白色粉末狀物質經過特殊工藝處理后形成的靶材,具有獨特的物理化學性質,使其成為薄膜沉積技術中的明星材料。 性能優勢與應用領域三氧化二釔靶材最顯著的特點是它的高熔點,達到2410℃,這一特性使其在高溫環境下仍能保持穩定。同時,它具備優異的化學穩定性,耐腐蝕性強,不易與大多數化學物質發生
氮化硅靶材:現代科技中的隱形英雄 氮化硅靶材在高科技制造領域扮演著關鍵角色。這種材料由氮和硅元素組成,具備獨特的物理和化學性質,使其在半導體、光伏、顯示面板等行業中不可或缺。 氮化硅靶材的制備工藝直接影響其性能。通常采用熱壓燒結或化學氣相沉積(CVD)方法,確保材料的高純度和致密性。熱壓燒結通過高溫高壓使粉末顆粒緊密結合,而CVD則通過氣體反應在基板上沉積氮化硅薄膜。兩種方法各有優劣,熱壓燒結成
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