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高純鉻靶的目標雜質控制:如果靶中的夾雜物數量過多,則在濺射過程中可能在晶片上形成顆粒,從而導致互連線短路或斷開,這將嚴重影響膜的性能。高純鉻靶中的大多數夾雜物是在冶煉和鑄造過程中形成的,主要由氧化物組成,但也包括氮化物,碳化物,氫化物,硫化物,硅化物等,因此應在冶煉和鑄造過程中使用。坩堝,內部 流道,鑄模等由還原性材料制成,在澆鑄之前,應將熔體表面的氧化物和其他爐渣徹底清除。 通常,它們在真空或無
梅州稀土靶材批發稀土靶材是一種在當今科技領域中應用廣泛的重要材料,由于其*特的物理和化學性質,在電子元件、光學薄膜、太陽能電池等領域都有著重要作用。梅州稀土靶材批發公司作為一家生產高屬材料、蒸發鍍膜材料以及濺射靶材的企業,致力于為廣大客戶提供的稀土靶材產品。稀土靶材主要通過電子或高能激光轟擊靶材表面,使其表面組分以原子團或離子形式被濺射出來,終沉積在基片表面形成薄膜。根據成分不同,稀土靶材可分為稀
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公司名: 東莞市鼎偉新材料有限公司
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