稀土合金靶材

時間：2025-05-27

作者：東莞市鼎偉新材料有限公司

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詞條說明
硒化鉻靶材
硒化鉻靶材：半導體行業的新星材料硒化鉻靶材作為一種新興的功能材料，近年來在半導體、光伏和顯示技術等領域嶄露頭角。其獨特的物理和化學性質使其成為高性能薄膜沉積工藝中的關鍵材料，尤其在制備低功耗電子器件方面展現出巨大潛力。硒化鉻（CrSe?）屬于過渡金屬硫族化合物，具有層狀晶體結構。這種結構賦予它優異的電學和磁學特性，例如較高的載流子遷移率和可調控的能帶結構。在薄膜沉積過程中，硒化鉻靶材通過磁控
ns1403鎳基合金的用途
成分：碳(C)≤0.07,錳(Mn)≤2.0,鎳(Ni)32.0～38.0,硅(Si)≤1.0,磷(P)≤0.045,硫du(S)≤0.035,鉻(Cr)19.0～21.0鈮(Nb) ≤1.0,鋁(Al) ≤0.2,鈦(Ti) 0.6～1.2,銅(Cu) 3.0～4.0 ,鉬(Mo)2.0～3.0運用范疇主要用途：長期現貨交易庫存量不銹鋼棒家具板材無縫鋼管卷帶！化工廠、食品類、制藥業和塑膠
合金靶材單價
靶材價格為何居高不下？揭秘背后的行業密碼在半導體和顯示面板行業，靶材的價格始終牽動著產業鏈的神經。一塊看似普通的金屬板材，其價格往往令人咋舌，這背后究竟隱藏著怎樣的行業密碼？靶材作為濺射鍍膜工藝的核心材料，其價格構成遠比表面看到的復雜。純度是決定靶材價格的首要因素。半導體級靶材通常要求純度達到99.999%以上，每提升一個9的純度，生產成本就呈幾何級數增長。高純金屬的提純工藝涉及電子束熔煉、區域
鉬合金靶材
鉬合金靶材：高性能濺射鍍膜的關鍵材料鉬合金靶材是真空鍍膜領域的核心材料之一，主要用于磁控濺射、離子鍍等工藝。這類靶材通常由鉬與其他金屬元素（如鈦、鋯、鎢等）組成，具備高熔點、低濺射速率和優異的導電性，適用于半導體、顯示面板、太陽能電池等高端制造領域。 **高純鉬靶材的優勢** 鉬合金靶材的純度直接影響鍍膜質量。高純度鉬靶材（純度可達99.95%以上）能減少雜質干擾，確保薄膜的均勻性和導電性能。