HVA 真空閥門應(yīng)用于E-Beam 鍍膜機

時間：2023-05-19作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：75

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• KRi 大面積射頻離子源應(yīng)用于 12英寸,8英寸 IBE 離子束蝕刻系統(tǒng)

  上海伯東美國?KRi 考夫曼公司大面積射頻離子源? RFICP 380, RFICP 220 成功應(yīng)用于 12英寸和 8英寸 IBE? 離子束蝕刻機, 刻蝕均勻性（1 σ）達到< 1%. 可以用來刻蝕任何固體材料, 包括金屬, 合金, 氧化物, 化合物, 混合材料, 半導(dǎo)體, 絕緣體, 導(dǎo)體等.離子束刻蝕屬于干法刻蝕, 其部件為大面積離子源. 作為蝕刻機的部件,

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  ? ?? ? ?黑膜鍍制,?是指將入射到材料表面的光線,?包括紫外光、可見光、近紅外光以及中遠紅外波段的光,?幾乎全部吸收而基本沒有反射的表面處理技術(shù).?高的吸收率使黑膜有著廣闊的應(yīng)用前景.?如可在精密光學(xué)儀器和光學(xué)零件、醫(yī)療儀器、航空航天、外觀裝飾品等產(chǎn)品上得到廣泛使用,?可大幅度提高產(chǎn)

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  氦質(zhì)譜檢漏儀高真空排氣臺密封性泄露檢測上海伯東某客戶生產(chǎn)研發(fā)多工位高真空和高真空排氣臺, 實現(xiàn)多工位同時抽真空的效果, 真空度需要穩(wěn)定在 -7 mbar, - 8 mbar, 包含真空系統(tǒng)在內(nèi)的多個組件, 均需要進行密封性泄露測試, 以保證高真空性能. 經(jīng)過上海伯東推薦真空系統(tǒng)**組件分子泵選用德國 Pfeiffer HiPace 系列, 并使用無油干式氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 340D?