高真空磁控濺射鍍膜技術【地震資訊】

時間：2022-09-07作者：鵬城半導體技術（深圳）有限公司瀏覽：247

鵬城半導體技術（深圳）有限公司專注于PVD鍍膜設備,化學氣相沉積,金剛石涂層等

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• *四屆**半導體產業（重慶）博覽會圓滿落幕

  6月29日至7月1日，*四屆**半導體產業與電子技術（重慶）博覽會（以下簡稱“博覽會”）在重慶**博覽中心圓滿落幕。博覽會聚焦“集成電路設計制造、封裝測試、半導體材料、AI+IOT+5G、智慧電源、生產設備、電子元器件、電子智能制造、智慧工廠、測試測量、連接器及線束加工”等重點領域，涵蓋展覽展示、*發布、**論壇、技術研討、招商推介等多維度活動內容，發布推廣新產品、*技術成果和優秀解決方案，搭

• 鵬城半導體參加2022深圳市坪山區半導體產業創新發展商端研討會

  2022年5月31日，由廣東省半導體行業協會主辦的以“科技創芯·智匯坪山”為主題的2022年深圳市坪山區半導體產業創新發展**研討會在坪山區創新廣場東部之芯成功舉辦，本次**研討會有效促進產業科研成果與坪山區優勢資源高效對接，得到了深圳市坪山區工業和信息化局的支持。**研討會現場近50位****、院士*及產業界嘉賓出席了本次**研討會，其中主要**及貴賓有坪山區一屆政協**陳主，坪山區副區長吳志

• 為您提供高性價比真空鍍膜設備解決方案《520愛情風暴來襲》

  真空鍍膜設備的薄膜制作過程，簡單來說就是將一種材料(薄膜材料）轉移到另一種材料(基底)的表面，形成和基底牢固結合的薄膜的過程。所以，任何的真空鍍膜薄膜制作方法都包括:源蒸發、遷移和凝聚三個重要環節。多功能磁控濺射儀一、鍍膜蒸發源“源"的作用是提供鍍膜的材料（或被鍍材料中的某種組分)。通過物理或化學的方法使鍍膜材料成為氣態物質。熱絲CVD金剛石設備二、遷移過程遷移過程都是在氣相中進行的，在氣態物質遷

• 化學氣相沉積設備（CVD）-小型管式LPCVD設備

  LPECVD是在低壓高溫的條件下，通過化學反應氣相外延的方法在襯底上沉積各種功能薄膜（主要是Si3N4、SiO2及Poly硅薄膜）。可用于科學研究、實踐教學、小型器件制造。小型管式LPCVD設備設備結構及特點1、小型化，方便實驗室操作和使用，大幅降低實驗成本兩種基片尺寸2英寸或4英寸；每次裝片1～3片。基片放置方式：配置三種基片托架，豎直、水平臥式、帶傾角。基片形狀類型：不規則形狀的散片、φ2～4