分子泵組與紅外光譜儀聯用

時間：2024-01-12作者：伯東企業（上海）有限公司瀏覽：116

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  詞條說明

• KRI 考夫曼射頻離子源濺射沉積立方氮化硼薄膜

  立方氮化硼（cBN）由于具有高的硬度/ 好的化學惰性/ 較好的熱穩定性/ 高的熱導率/ 在寬波長范圍內(約從 200nm 開始) 有很好的透光性/ 可摻雜為 n 型和 p 型半導體等特點, 在切削工具/ 材料/ 光學元件表面涂層/ 高溫/ 高頻/ 大功率/ 抗輻射電子器件/ 電路熱沉材料和絕緣涂覆層等方面具有很大的應用潛力.?在對立方氮化硼 (cBN) 薄膜研究中, 西北某金屬研究所采用

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  上海伯東美國?KRi 考夫曼離子源?e-beam 電子束蒸發系統輔助鍍膜應用上海伯東美國?KRi 考夫曼離子源?KDC 系列, 通過加熱燈絲產生電子, 是典型的考夫曼型離子源, 離子源增強設計輸出低電流高能量寬束型離子束, 通過同時的或連續的離子轟擊表面使原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, 實現輔助鍍膜 IBAD.?e-beam?電子束蒸

• 模塊式檢漏儀應用于氫能行業真空箱檢漏系統

  模塊式檢漏儀應用于氫能行業真空箱檢漏系統在燃料電池中, 氫氣發生電化學反應以產生電力并為汽車提供動力. 燃料電池發電機, 儲氣罐和配電管線需要密封, 防止發生可能影響性能和安全性的泄漏. 為滿足大批量生產需求, 通常使用自動化真空箱檢漏系統. 上海伯東德國 Pfeiffer?檢漏模塊 ASI 35?作為自動氦檢漏系統的**部件, 提供可靠, 可重復的泄露檢測, 滿足氫能行業真空