KRI 考夫曼射頻離子源濺射沉積立方氮化硼薄膜

時(shí)間：2024-01-12作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：127

伯東企業(yè)（上海）有限公司專注于pfeiffer,氦質(zhì)譜檢漏儀,inTEST等

• 詞條

  詞條說(shuō)明

• HVA 高真空閘閥應(yīng)用于 OLED 鍍膜機(jī)

  因產(chǎn)品配置不同，價(jià)格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實(shí)際成交合同為準(zhǔn)。HVA?高真空閘閥應(yīng)用于 OLED 鍍膜機(jī)OLED 鍍膜機(jī)主要面向半導(dǎo)體照明客戶, 需要鍍膜機(jī)性能穩(wěn)定, 器件效率高, *,HVA?高真空閘閥應(yīng)用一般科研用鍍膜機(jī)的基片尺寸在 4”和6”大小, 本底真空度要求達(dá)到 5*10-7mbar 或 5*10-8mbar, 這時(shí)需要配置分子泵系統(tǒng)或低溫泵

• KRI 離子源應(yīng)用于車(chē)載AR-HUD 鍍膜

  ?HUD?已經(jīng)成為一種常見(jiàn)的汽車(chē)配置與功能,?通過(guò)它來(lái)直觀顯示速度、發(fā)動(dòng)機(jī)轉(zhuǎn)速或其他懸停在駕駛員視野中的信息,?減少因低頭查看儀表盤(pán)而造成的分心,?提升駕駛.?目前量產(chǎn)的車(chē)用抬頭顯示?HUD?正在從風(fēng)擋型?W-HUD?逐漸向增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)型的?AR-HUD?發(fā)展：從單純的信息展示屏幕,

• KRI 離子源用于鍍制1064nm窄帶濾光片激光膜

  ?? ? ? 1064nm 窄帶濾光片是在各類玻璃材質(zhì)表面通過(guò)特殊的鍍膜工藝而形成的光學(xué)元件, 可以從入射光中選取任意所需求的波長(zhǎng), 半峰值一般在 5nm~50nm之間, 具有波長(zhǎng)定位準(zhǔn)確、透過(guò)高、截止深、溫漂小、性好、光潔度好的特點(diǎn), 是激光設(shè)備應(yīng)用中常見(jiàn)的濾光片解決方案.?? ? ? 1064nm 窄帶濾光片使用在

• HVA 真空閥門(mén)用在氣體管路系統(tǒng)

  某半導(dǎo)體工廠在生產(chǎn)線上氣體輸送環(huán)節(jié)的氣體管路系統(tǒng)采用伯東?HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?，作為真空隔離密封.?HVA?是真空技術(shù)創(chuàng)新者的真空閥門(mén)(插板閥),?是高真空閥門(mén)的主要制造商和供應(yīng)商.?在設(shè)計(jì)真空系統(tǒng)時(shí),?可以輕松集成?HVA?閥門(mén). HVA?閘閥從5/8英寸（16