KRI 考夫曼射頻離子源濺射沉積立方氮化硼薄膜

時間：2024-01-12作者：伯東企業（上海）有限公司瀏覽：108

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  詞條說明

• HVA 真空閥門用于太陽能電池生產

  HVA真空閥門用于太陽能電池生產?太陽能電池又稱為 ”太陽能芯片” 或 ”光電池”, 是一種利用太陽光直接發電的光電半導體薄片. 它只要被滿足一定照度條件的光照到, 瞬間就可輸出電壓及在有回路的情況下產生電流. 在物理學上稱為太陽能光伏（Photovoltaic, 縮寫為PV）, 簡稱光伏.太陽能電池是通過光電效應或者光化學效應直接把光能轉化成電能的裝置. 以光伏效應工作的晶硅太陽能電池

• HVA 真空閥門應用于亞洲*大的粒子系統

  因產品配置不同，價格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實際成交合同為準。美國 HVA 真空閥門應用于亞洲大的粒子系統上海伯東代理的美國 HVA 真空閥門應用于中國研制的亞洲大的粒子系統 ( 100MV ),當前世界上大的粒子系統為美國費密國立實驗室的一臺質子同步 ( 200MV )上海伯東是美國 HVA 真空閥門在中國境內的代理商, 負責HVA valve 真空閥門在中國地區的銷售和相關

• KRi 考夫曼離子源表面預清潔 Pre-clean 應用

  上海伯東代理美國?KRi 考夫曼離子源適用于安裝在 MBE 分子束外延, 濺射和蒸發系統, PLD 脈沖激光系統等, 在沉積前用離子轟擊表面, 進行預清潔 Pre-clean 的工藝, 對基材表面物清洗, 金屬氧化物的去除等, 提高沉積薄膜附著力, 純度, 應力, 工藝效率等！KRi 離子源預清潔可以實現去除物理吸附污染: 去除表面污染, 如水, 吸附氣體, 碳氫化合物殘留去除化學吸附污

• KRi 射頻離子源 IBSD離子束濺射沉積應用

  上海伯東美國?KRi 考夫曼 RF 射頻離子源, 燈絲提供高能量, 低濃度的寬束離子束, 離子束轟擊濺射目標, 濺射的原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, IBSD 離子束濺射沉積 和 ?IBD 離子束沉積是其典型的應用.KRi?離子源在 IBSD 離子束濺射沉積應用通常安裝兩個離子源主要濺射沉積源和二次預清潔 / 離子輔助源一次氣源為惰性氣體, 二次氣源為惰性或反應性