KRI 離子源應用于舞臺燈光濾光片鍍膜

時間：2024-01-10

作者：伯東企業（上海）有限公司

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詞條說明
氦質譜檢漏儀真空鍍膜配氣面板檢漏
氦質譜檢漏儀 ASM 340?真空鍍膜配氣面板檢漏上海伯東某客戶生產高純度特種氣體不銹鋼減壓閥門, 接頭, 管件, 這些配件主要用于集成在真空鍍膜配氣面板, 實現工藝氣體的傳輸. 為了防止氣體外泄, 除了閥門, 接頭, 管件需要單檢漏外, 整個配氣面板也需要測試整體漏率, 使用上海伯東德國 Pfeiffer?氦質譜檢漏儀 ASM 340, 真空模式下, 漏率設置為 5.5x
氦質譜檢漏儀熱交換器檢漏
氦質譜檢漏儀熱交換器檢漏上海伯東德國 Pfeiffer 某客戶需要對體積 >1000L 的熱交換器進行檢漏, 熱交換器內部管子細長, 流導小, 需要盡可能的快速測試并要求清潔無油, 真空模式下, 熱交換器漏率要求 1x10-6 mbar l/s. 為了快速抽空, 選用輔助泵 + 氦質譜檢漏儀 ASM 390, 實現快速檢漏！熱交換器檢漏方法：配置: ASM 380 (新款 ASM 390)
上海伯東美國 HVA 真空插板閥在半導體管道中的應用
半導體后端工藝制程中需要使用到例如 Ar, O2 或是其他特殊氣體,氣體管路系統(真空管路)的作用是把各種氣體在滿足工藝制程要求的純度, 壓力和流量的前提下穩定的供應到工藝設備內. 上海伯東美國 HVA?插板閥廣泛用于高真空或高真空的氣體輸送環節,?用來改變氣流方向,?調節氣流量大小,?切斷或接通管路,?起到真空隔離密封等作用. 美國 HVA&nb
HVA 高真空閘閥應用于 E-Beam 鍍膜機
因產品配置不同，價格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實際成交合同為準。HVA 高真空閘閥應用于 E-Beam 鍍膜機E-Beam 電子束蒸發鍍膜機用于在半導體, 光學, **導材料等行業的研究與生產, 比如基片蒸發沉積金屬, 導電薄膜, 半導體薄膜, 鐵電薄膜, 光學薄膜和介質材料.E-Beam 鍍膜機設備組成:?系統主要由蒸發室, 電子, 進樣室 (可選) , 旋轉基片加熱臺, 工作氣