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東莞金靶材電話作為一家生產高屬材料、蒸發(fā)鍍膜材料以及濺射靶材的科技型企業(yè),我們的公司致力于為客戶提供高質量、的金靶材產品。金靶材作為高速荷能粒子轟擊的目標材料,在多個領域具有廣泛的應用,從光學涂層、生物醫(yī)學領域、電子器件到納米技術,金靶材都發(fā)揮著重要作用。在光學涂層方面,金靶材以其良好的光學特性,如高反射率、低吸收率和優(yōu)異的耐腐蝕性能,被廣泛應用于制備光學元件,包括反射鏡、濾光片和增透膜等。這些產
公司是生產高屬材料、蒸發(fā)鍍膜材料以及濺射靶材的科技型民營股份制工貿有限公司。我們自豪地介紹我們公司*有的特色和優(yōu)勢,以及我們生產的鉻鋁靶材的品質和應用領域。**鉻鋁靶材的特點和應用**鉻鋁靶材是一種重要的濺射靶材,主要用于質量控制和儀器校準,特別是在X射線熒光光譜分析和電子能譜分析等表面分析技術中。通常由高純度的鉻和鋁元素按一定比例混合而成,可以根據用戶需求定制不同比例的鉻鋁靶材。其制備過程中采用
銀銅合金靶材:高性能濺射鍍膜的關鍵材料 銀銅合金靶材在半導體、光伏、顯示面板等領域應用廣泛,其獨特的性能使其成為濺射鍍膜工藝中的重要材料。銀銅合金結合了銀的高導電性和銅的耐腐蝕性,能夠制備出兼具優(yōu)良導電性和穩(wěn)定性的薄膜,滿足高端電子器件的需求。 銀銅合金靶材的制備工藝直接影響其性能。通常采用真空熔煉、精密鑄造、熱軋或冷軋等工藝,確保合金成分均勻、晶粒細小。高純度的原材料和嚴格的熱處理工藝能夠減少
一氧化硅靶材:半導體制造中的關鍵材料在半導體和光電材料領域,一氧化硅靶材扮演著不可或缺的角色。這種特殊材料通過物理氣相沉積技術,能夠制備出性能優(yōu)異的功能薄膜,廣泛應用于微電子、光學鍍膜和太陽能電池等行業(yè)。一氧化硅靶材的制備工藝極為講究,通常采用高純度硅粉和二氧化硅為原料,在特定條件下通過高溫反應合成。制備過程中需要嚴格控制氧分壓和溫度參數,以確保產物化學計量比的精確性。高質量的靶材要求具有高純度
公司名: 東莞市鼎偉新材料有限公司
聯(lián)系人: 肖先生
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手 機: 18681059472
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