plasma等離子處理TEOS工藝沉積二氧化硅薄膜的光譜研究

時間：2023-03-20作者：深圳子柒科技有限公司瀏覽：176

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• plasma等離子處理TEOS工藝沉積二氧化硅薄膜的光譜研究

  二氧化硅薄膜是一種性能優(yōu)良的介質(zhì)材料，它具有介電性能穩(wěn)定，介質(zhì)損耗小，耐潮性好，溫度系數(shù)好等優(yōu)點，具有較其穩(wěn)定的化學(xué)性和電絕緣性。因此，二氧化硅在集成電路工藝中的應(yīng)用很廣泛。? ? ? ? 正是由于二氧化硅薄膜在集成電路工藝中應(yīng)用的廣泛性，所以需要制備具有不同特性的二氧化硅薄膜，這就意味著要不斷研發(fā)出各種新型的薄膜沉積技術(shù)。近年來，常壓plasma等離子處理

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  納米銅薄膜是一種新型功能材料具有表面效應(yīng)、**效應(yīng)等特性，其導(dǎo)電性能良好在化工、紡織、醫(yī)學(xué)和電子等廣泛應(yīng)用。低溫等離子體處理技術(shù)是一種對環(huán)境友好的表面處理技術(shù)，可應(yīng)用于不同材料的表面處理，以實現(xiàn)清潔、刻蝕或接枝等。? ? ? ? 紡織材料表面采用低溫等離子體技術(shù)處理工藝設(shè)計后以其為基質(zhì)沉積納米銅薄膜，可作為理想的功能材料并提高紡織品的附加值。未經(jīng)等離子體預(yù)處

• 等離子體刻蝕機(jī)清洗技術(shù)在塑料及橡膠行業(yè)中的應(yīng)用

  等離子體刻蝕機(jī)是利用高頻輝光放電反應(yīng)，將反應(yīng)氣體為原子或游離基等具有活性的粒子，這些活性粒子擴(kuò)散到需要腐蝕的位置，然后與被刻蝕的物質(zhì)發(fā)生反應(yīng)，形成揮發(fā)性反應(yīng)物，這種腐蝕方法也稱為干腐蝕。等離子化洗蝕刻技術(shù)是電漿特殊特性的應(yīng)用。等離子體清洗蝕刻技術(shù)的形成設(shè)備，是在密閉器皿內(nèi)用進(jìn)口真空泵達(dá)到相應(yīng)的真空度，隨著氣體的稀薄，分子間隔及分子與離子之間的自由運動距離變長，在電場的作用下碰撞形成等離子體，這些離

• 在紡織和涂層領(lǐng)域_等離子表面活化機(jī)的使用情況有哪些呢？

  等離子表面活化機(jī)廣泛應(yīng)用于紡織品后整理。按照整理的目的和要求，可以實現(xiàn)紡織品的多功能加工，大大提高產(chǎn)品的附加值。目前，它在紡織品中的應(yīng)用主要包括以下幾類。1)等離子表面活化機(jī)三防整理傳統(tǒng)式的紡織品三防整理，往往需要經(jīng)過軋制、烘焙、烘焙等工序，工藝流程長，需要耗費大量能量；而且需要昂貴的整理劑等添加劑。因此，其加工成本高，整理后往往會影響或犧牲纖維或織物本身的特性和性能。較重要的是，這些整理劑或交聯(lián)