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原子吸收光譜儀由以下四部分組成1.光源系統:空心陰極燈2.原子化系統:火焰原子化器;石墨爐原子化器或氫化物發生器。3.分光系統:單色器4.檢測系統:光電倍增管等一、光源系統:原子吸收光源應滿足以下條件1.能輻射出半寬度比吸收線半寬度還窄的譜線,并且**線的中心頻率應與吸收線的中心頻率相同。2.輻射的強度應足夠大。3.輻射光的強度要穩定,且背景小。原子化器是將樣品中的待測組份轉化為基態原子的裝置。二
鍍層膜厚檢測技術的關鍵要點鍍層膜厚檢測是工業生產中不可或缺的環節,直接影響產品質量和使用壽命。江蘇地區作為制造業重鎮,對檢測儀器的需求尤為**。當前主流檢測技術主要分為磁性法和渦流法兩種,適用于不同基材的測量需求。磁性法檢測儀采用永磁體探頭,通過測量磁引力變化來確定非磁性基材上的鍍層厚度。這種方法對鐵基材料上的鋅、鉻等鍍層測量效果顯著,精度可達±1μm。但需要注意基材厚度需大于3mm,否則可能影響
**鍍層厚度測試儀:精準測量的關鍵工具** 在工業生產和質量檢測中,鍍層厚度直接影響產品的性能和壽命。無論是金屬防腐、電子元件制造,還是汽車工業,鍍層厚度的精準測量都至關重要。鍍層厚度測試儀作為**檢測工具,其性能和準確性決定了生產質量的高低。 **鍍層厚度測試儀的**技術** 鍍層厚度測試儀主要通過X射線熒光法、磁性法或渦流法進行測量。X射線熒光法適用于多種鍍層材料,尤其對貴金屬鍍層的檢測效果顯
膜厚測試儀:工業制造的"火眼金睛"在精密制造領域,膜厚測試儀扮演著至關重要的角色。這種看似不起眼的檢測設備,卻能在微觀尺度上精確測量各類薄膜的厚度,為產品質量保駕**。無論是半導體芯片上的納米級薄膜,還是汽車噴漆表面的涂層,都逃不過它的"法眼"。現代膜厚測試技術主要分為接觸式和非接觸式兩大類。接觸式測量采用機械探針直接接觸樣品表面,雖然精度高但*劃傷敏感材料。非接觸式則利用光學、超聲波或渦流等
公司名: 江蘇天瑞儀器股份有限公司
聯系人: 張先生
電 話: 02159788638
手 機: 18626188839
微 信: 18626188839
地 址: 上海奉賢上海奉賢
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