質量流量計為何要進行穩壓補償

時間：2023-10-07

作者：鄭州科探儀器設備有限公司

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快速退火爐系統設計與實現
快速退火爐是現代大規模集成電路生產工藝過程中的關鍵裝備? ? ?主要用于離子注入后雜質的、淺結制作、生長高質量的氧化膜層和金屬硅化物合金形成等工藝。隨著集成電路工藝技術的飛速發展,開展快速退火爐系統的技術研究,對國內開發和研究具有自主知識產權的快速退火爐裝備,有著十分重要的理論意義和工程應用**。? ? ? 本文針對現代半導體器件退火工藝
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小型濺射儀的工作原理是指電子在電場E的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發生碰撞，使其電離產生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片，Ar離子在電場作用下加速飛向陰靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發生濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜，而產生的二次電子會受到電場和磁場作用，產生E（電場）×B（磁場）所指的方向漂移，簡稱E×B漂移，其運動軌跡近似一條擺線。若為環形磁場，則電子就
質量流量計為何要進行穩壓補償
質量流量計為何要進行穩壓補償常用的流量計大多只能夠直接測量流體的體積，并不能直接測量質量，如果只測量流體在當前工況下的體積時，質量流量計儀表可以直接顯示出來。但是如果要求流量計顯示為流體質量時，需要通過計算即時采樣的流體體積參數與密度參數相乘的積而得出(質量=密度X體積)而并非直接測量出流體的質量。質量流量計作為流量儀表，它測量出來的數據一定要準確，如果要測量流體的質量時就涉及到一個問題：就是流體