真空鍍膜設備的環境要求

時間：2022-04-16作者：廣東振華科技股份有限公司廣東廣州分公司瀏覽：337

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• 詞條

  詞條說明

• 立式濺射鍍膜設備的優勢及應用行業

  立式濺射鍍膜設備的特點： 1、在真空條件下制備鍍膜環境清潔，膜層不易受污染，可獲得致密性好，純度高，膜層厚度均勻，易于控制的涂層。 2、膜材的基體材料有廣泛的選擇性，可制備各種不同的功能性涂層。 3、膜的附著強度高，膜層十分牢固，不易脫落。 4、在工藝過程中不產生廢液，減少環境污染，減少對人體有害的金屬物體，較大程度上實現綠色環保生產。其中之一的汽車行業 該設備的設計為立式雙門的結構，是一款直流磁

• 磁控濺射鍍膜設備工作原理

  ? ? ? ? ?磁控濺射是一個運行模式的二級濺射。它與二，四級濺射的主要不同點；一是，在濺射的陰極靶后面設置了*磁鋼或電磁鐵。在靶面上產生水平分量的磁場或垂直分量的磁場，由氣體放電產生的電子被束縛在靶面附近的等離子區內的特定軌道內運轉；受電場力和磁場力的復合作用，沿一定的跑道作旋轉輪轉圈。? ? ? ?

• 電鍍和真空鍍的區別

  ????電鍍和真空鍍的區別有哪些？接下來讓我們一起來了解一下，較方便我們猶豫選擇電鍍還是真空鍍的時候能做出正確的判斷。一、原理上的不同1、電鍍：是利用電解原理在某些金屬表面上鍍上一薄層其他金屬或合金的過程，是利用電解作用使金屬或其他材料制件的表面附著一層金屬膜的工藝。電鍍過程是鍍液中的金屬離子在外電場的作用下，經電極反應還原成金屬原子，并在陰極上進行金屬沉積

• 磁控濺射鍍膜設備

  ? ? ? ? 該設備集磁控濺射與離子鍍膜技術為一體，對提高顏色一致性、沉積速率及化合物成份的穩定性提供了解決方案。根據不同的產品需求，可選配加熱系統、偏壓系統、離化系統等裝置，其靶位分布可靈活調整，膜層均勻性優越，配備不同的靶材，可鍍制出性能較好的復合膜層。設備所鍍制的膜層具有附著力強，致密性高的優點，可有效提高產品的耐鹽霧性、耐磨性及產品表面硬度，滿足了